HPSP(403870)는 금일 코스닥 시장에서 전 거래일보다 2,050원 내린 46,600원을 기록하며 하락세를 면치 못했다. 반도체와반도체장비 섹터가 평균 6.14% 상승하고 IT 대표주들이 9.21% 급등하는 호조를 보였음에도 불구하고, HPSP는 개별 악재가 돌출하며 나홀로 약세를 나타냈다. 시가총액은 3조 8,352억 원 규모로 줄어들었으며 장중 내내 매도 압력이 우위를 점하며 지지선 확보에 난항을 겪는 모습이었다.

 

주가 하락의 결정적 원인은 경쟁사인 예스티와의 고압어닐링 관련 특허 무효 심판에서 패소했다는 소식이 시장에 전해진 탓이다. 2026년 5월 29일 오전, 예스티가 HPSP의 핵심 기술인 '303 특허'에 대해 제기한 무효 심판에서 승소했다는 보도가 나오면서 투자자들의 불안감이 증폭되었다. 이는 HPSP가 그간 누려온 고압 수소 어닐링 장비 시장에서의 독점적 지위가 흔들릴 수 있다는 우려로 번지며 차익 실현과 손절매 물량을 동시에 불러일으켰다.

동사는 2017년 설립 이후 28나노 이하 공정에서 발생하는 계면 결함(Interface Defect)을 해결하는 고압 수소 어닐링 장비인 'GENI-SYS'를 개발하여 글로벌 메이저 반도체 업체에 공급해 왔다. 20기압 이상의 고압 환경에서 수소 농도를 100% 구현하는 독보적 기술력은 동사의 높은 영업이익률을 뒷받침하는 핵심 근거였다. 그러나 이번 특허 무효 판결로 인해 기술적 진입 장벽이 낮아질 가능성이 제기되면서 밸류에이션 프리미엄에 대한 재평가가 불가피해진 상황이다.

거래량은 평소 수준을 크게 상회하는 2,788,643주를 기록하며 시장의 높은 변동성을 그대로 반영했다. 한국거래소는 주가 급락에 따라 주식선물 2단계 가격제한폭 확대요건에 도달했다고 공시하며 시장의 과열된 매도세를 경고하는 조치를 취했다. 특히 공매도 과열종목 지정에 따른 거래 금지 연장 조치가 시행 중임에도 불구하고 하방 압력을 방어하기에는 역부족이었던 것으로 풀이된다.

시장 전문가들은 이번 판결이 HPSP의 중장기 펀더멘털에 미칠 파급력에 주목하며 기술적 경쟁 심화 가능성을 경고하고 있다. 한 대형 증권사 반도체 수석 연구원은 "HPSP의 독보적인 기술력이 특허라는 강력한 보호막 아래 고수익을 보장해 왔으나, 이번 패소로 인해 후발 주자들의 시장 진입 장벽이 낮아질 우려가 크다"고 분석했다. 이러한 분석은 단순한 가격 조정을 넘어 기업 가치 산정 방식의 근본적인 변화를 시사한다.

반면 일각에서는 이번 하락이 과도한 공포 심리에 기반한 일시적 오버슈팅이라는 신중한 견해도 동시에 제기하고 있다. HPSP가 보유한 고압 수소 농도 100% 구현 기술과 저온 공정 최적화 노하우는 단기간에 경쟁사가 완전히 대체하기 어려운 숙련도를 요구한다. 특허 분쟁이 향후 상급 법원에서의 항소 과정을 통해 장기화될 가능성이 높고 실제 양산 적용까지는 상당한 시차가 존재한다는 점은 보수적 투자자들에게 저점 매수의 근거로 작용할 여지가 있다.

섹터 전반의 흐름을 살펴보면 반도체 대표주들이 3.06% 상승하고 전선 및 스마트팩토리 테마가 강세를 보이는 등 업황 회복에 대한 기대감은 여전히 유효하다. HPSP 역시 고압 수소 어닐링 장비 분야의 선도 기업으로서의 지위는 유지하고 있으나, 경쟁사의 추격과 법적 리스크라는 이중고를 해결해야 하는 과제를 안게 되었다. 향후 주가는 특허 판결에 대한 회사의 공식 대응 수위와 2분기 실적 발표를 통한 펀더멘털 증명 여부에 따라 방향성을 잡을 것으로 보인다.

기술적 관점에서 HPSP는 단기 이동평균선을 하향 돌파하며 하락 추세로의 전환 기로에 서 있다. 금일 발생한 대량 거래를 동반한 장대 음봉은 매수세의 위축을 상징하며, 직전 저점 부근에서의 강력한 지지 여부를 확인하는 과정이 선행되어야 한다. 투자자들은 감정적인 대응보다는 특허 분쟁의 최종 결론과 고객사 내 점유율 변화를 면밀히 관찰하며 보수적인 비중 조절에 임해야 할 시점이다.

 

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