삼성전자, 美 오스틴공장에 4조5000억 투자

삼성전자는 내년까지 총 36억 달러(약 4조5000억 원)를 미국 텍사스주에 위치한 오스틴 반도체공장에 투자할 계획이라고 10일 밝혔다.

오스틴 공장은 지난 1996년 가동을 시작해 주로 디지털TV와 휴대폰 등에 쓰이는 낸드플래시를 생산하고 있다.

삼성전자는 이번 투자로 시스템반도체 생산라인을 건설, 내년 2분기부터 양산을 목표로 하고 있다. 또 연구개발(R&D)센터 신축도 계획하고 있다.

삼성전자 관계자는 "비메모리반도체 수요가 커지고 있어 이 같은 투자를 결정한 것"이라며 "지난달 발표한 2조원 규모의 올해 비메모리반도체 투자계획에 일부 포함된 내용"이라고 밝혔다.

한편, 삼성전자는 지난달 17일 경기 화성캠퍼스(반도체사업장)에서 메모리반도체 16라인 기공식을 한 뒤 반도체·LCD 등 총 26조원 규모의 올해 투자계획을 밝힌 바 있다.